ASML, 2030년까지 칩 생산량을 50% 늘릴 수 있는 EUV 광원 기술 공개

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원문 요약

네덜란드 반도체 장비 기업 ASML이 차세대 EUV(극자외선) 광원 기술을 공개 이 기술은 기존 대비 칩 생산 효율을 최대 50% 향상시킬 수 있는 잠재력을 가짐 ASML은 이 기술을 2030년까지 상용화할 계획을 제시